Система измерения Эффекта Холла HEMS

Характеристики

Подходит для:

Материалов на основе GaAS (HEMST, pHEMT, HBT, FET, MESFET),  lnP, InAs, GaN и
AIN, Si, Ge, SiC, HgCdTd, ZnO, SiGe, MnGaAS, ZnO, инфракрасных применений (LED, лазер
диоды, детекторы), оксидов металлов, органических, неорганических проводников, ферритов и т. д.

Измерения включают в себя:

• Измерение мобильности;
• Измерения несущей заряда;
• Измерения удельного сопротивления;
• Измерения Ван дер Пау;
• Измерения Холла.

Наконечники полюсов:

• Регулируемые наконечники;
• 25 мм в диаметре;
• Бесступенчато регулируемый наконечник 0-130 мм;
• Больший диаметр, 50 мм, 75 мм - опция.

Электромагнит:

• ± 2,5T при зазоре 100 мм с 25 мм полюсным наконечником;
• Катушки ± 35В, ± 70А;
• Магнитное поле> ± IT @ 25 мм полюсный наконечник;
• Высокая напряженность магнитного поля с большим разделением полюсов;
• Подходит для замкнутого цикла криостата, 3-300K;
• Сопротивление в последовательных катушках: 0,5 Ом (20 ° C);
• С водяным охлаждением.

Охладитель:

• Замкнутый цикл водяного охлаждения;
• Блокирует катушки по температуре.

Наномагнетический гауссметр:

• Сканирование с помощью магнитного поля с использованием встроенного гауссметра;
• Калибровка поля с помощью датчиков Холла;
• Высокая чувствительность измерения магнитного поля;
• Программный контроль всех параметров.

Держатели образцов:

Вариант конструкции с пружинной загрузкой:

• Измерение Ван дер Пау;
• Конструкция с четырьмя, шестью или восемью контактными стержнями измерения Холла;
• Простое крепление образца с помощью пружинных штифтов;
• Размеры образца 5 мм x 5 мм (большие размеры - опционально);
• Несколько образцов крепления.

Паяный / склеенный вариант конструкции:

• Измерение Ван дер Пау;
• Конструкция с четырьмя или шестью контактными стержнями измерения Холла;
• Восьмиконтактный дизайн измерения Холла (опционально);
• Размеры образца 5 мм x 5 мм (большие размеры - опционально);
• Множественное (2 шт.) крепление образца.

Контроллер и программное обеспечение:

• Keithley Instruments, чувствительность pA / µV, уровень техники SourceMeter;
• Послойный анализ мобильности с использованием нашего мощного программного обеспечения;
• C# полностью автоматизированное программное обеспечение;
• Магнит и система управления через интерфейс USB / IEEE / Ethernet;
• Опция контроля температуры для измерений LT-HT, 3 - 1300K;
• Полевые контролируемые измерения с помощью гауссметра;
• Легко визуализируемые настройки для измерений Ван дер Пау и Холла;
• Бесплатное обновление программного обеспечения на всю жизнь.

Конструкция

HEMS имеет интегрированную аппаратно-программную систему, предназначенную для измерения и анализа электронных свойств образцов. Конструкция системы дает возможность проводить измерения под магнитным полем до 2,5 Тесла.

В то же время система предоставляет возможность проводить измерения в диапазоне 3K-1273K с помощью двух различных измерительных головок, а также обеспечивает простую сборку образцов, связанных с системой датчиков, которые могут перемещаться по 3 различным осям.

Нано механическая визуализация NMI - устройство системы измерения эффекта Холла (HEMS), которое измеряет электрические характеристики полупроводниковых, органических проводниковых и металлооксидных материалов. Эти материалы, разработанные с применением нанотехнологических методов, используются при разработке чиповых технологий, разработке солнечных элементов, развитии материаловедения, космических технологий, оборонной промышленности.